Substrate comprising a target arrangement, associated patterning device and metrology method

WO2023117314 Art A1 29. Juni 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023117314
Aktenzeichen: EP22822167
Anmeldetag: 28. November 2022
Veröffentlichung: 29. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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