Method of reducing cyclic error effects in a lithographic process, projection system and lithographic apparatus comprising a projection system

WO2023117399 Art A1 29. Juni 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023117399
Aktenzeichen: EP22830524
Anmeldetag: 6. Dezember 2022
Veröffentlichung: 29. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01B9/02055

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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