Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, acid generator, and compound

WO2023119910 Art A1 29. Juni 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023119910
Aktenzeichen: EP22910630
Anmeldetag: 7. November 2022
Veröffentlichung: 29. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C311/09C07C311/21C07C381/12C07D307/00C07D327/08C07D333/76C09K3/00G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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