Radiation-sensitive composition and pattern formation method

WO2023120200 Art A1 29. Juni 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023120200
Aktenzeichen: EP22910911
Anmeldetag: 7. Dezember 2022
Veröffentlichung: 29. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/28G03F7/004G03F7/038G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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