Method for manufacturing color filter and photomask for proximity exposure

WO2023120566 Art A1 29. Juni 2023

Anmelder: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023120566
Aktenzeichen: EP22911268
Anmeldetag: 21. Dezember 2022
Veröffentlichung: 29. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/29G03F1/32G02B5/18G02B5/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Dai Nippon Printing

Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.

3.006 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von