Composition for forming resist underlayer film having saccharin skeleton

WO2023120616 Art A1 29. Juni 2023

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023120616
Aktenzeichen: EP22911318
Anmeldetag: 22. Dezember 2022
Veröffentlichung: 29. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C08G59/14G03F7/11G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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