Method for producing resist pattern, method for producing laminate, and photosensitive transfer material for direct imaging exposure

WO2023127755 Art A1 6. Juli 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023127755
Aktenzeichen: EP22915978
Anmeldetag: 23. Dezember 2022
Veröffentlichung: 6. Juli 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/11H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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