Methods and systems for regularizing the optimization of application specific semiconductor measurement system parameter settings
WO2023129279
Art A1
6. Juli 2023
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023129279
- Aktenzeichen
- EP22917147
- Anmeldetag
- 8. November 2022
- Veröffentlichung
- 6. Juli 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B11/02G01B11/24G01B21/04G01N21/95G01N21/93H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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Vertreten von
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