Software, methods, and systems for determination of a local focus point

WO2023131570 Art A1 13. Juli 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023131570
Aktenzeichen: EP22840773
Anmeldetag: 27. Dezember 2022
Veröffentlichung: 13. Juli 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N23/225G06T7/00H01J37/21

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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