Highly Thermally Conductive Silicone Composition
WO2023132192
Art A1
13. Juli 2023
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023132192
- Aktenzeichen
- EP22918778
- Anmeldetag
- 13. Dezember 2022
- Veröffentlichung
- 13. Juli 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08L83/07C08K3/013C08K5/01C08L83/05C08L83/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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