Method for manufacturing substrate having functional pattern, device for forming functional pattern, and program

WO2023135947 Art A1 20. Juli 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023135947
Aktenzeichen: EP22920467
Anmeldetag: 25. November 2022
Veröffentlichung: 20. Juli 2023
Rechtsraum: WO
IPC: B05D1/26B05D3/02B05C5/00H05K3/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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