Photosensitive resin composition, photosensitive element, and production method of laminate
WO2023136105
Art A1
20. Juli 2023
Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023136105
- Aktenzeichen
- EP22920622
- Anmeldetag
- 23. Dezember 2022
- Veröffentlichung
- 20. Juli 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004C07C211/54C08F2/44C08F2/50C08F220/10G03F7/027G03F7/033H05K3/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RESONAC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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