Composition for forming silicon-containing resist underlayer film, and silicon-containing resist underlayer film

WO2023136250 Art A1 20. Juli 2023

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023136250
Aktenzeichen: EP23740259
Anmeldetag: 11. Januar 2023
Veröffentlichung: 20. Juli 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/20G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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