Method for producing silicon oxynitride glass, method for producing optical waveguide, silicon oxynitride glass, optical waveguide, infrared image furnace, window material, and optical member
WO2023136349
Art A1
20. Juli 2023
Anmelder: NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023136349
- Aktenzeichen
- EP23740357
- Anmeldetag
- 16. Januar 2023
- Veröffentlichung
- 20. Juli 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C03B8/00G02B1/00G02B3/00G02B6/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute for Materials Science
Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.
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