Charged particle beam device, and beam deflection method in charged particle beam device

WO2023139631 Art A1 27. Juli 2023

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023139631
Aktenzeichen: EP22921794
Anmeldetag: 18. Januar 2022
Veröffentlichung: 27. Juli 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/05H01J37/147H01J37/153

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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