Real time photoresist outgassing control system and method
WO2023141022
Art A1
27. Juli 2023
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023141022
- Aktenzeichen
- EP23743607
- Anmeldetag
- 6. Januar 2023
- Veröffentlichung
- 27. Juli 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/317H01L21/266
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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