Substrate cleaning method, glass substrate manufacturing method, euvl mask blank manufacturing method, and substrate cleaning apparatus
WO2023145431
Art A1
3. August 2023
Anmelder: AGC INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023145431
- Aktenzeichen
- EP23746646
- Anmeldetag
- 11. Januar 2023
- Veröffentlichung
- 3. August 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AGC INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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