Sputtering target material and production method for oxide semiconductor

WO2023145498 Art A1 3. August 2023

Anmelder: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023145498
Aktenzeichen: EP23746712
Anmeldetag: 16. Januar 2023
Veröffentlichung: 3. August 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C01G15/00C01G35/00C04B35/453C23C14/08H01L21/336H01L21/363H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von