Resistive hydrogen sensor comprising sensing layer having semiconducting single-walled carbon nanotubes, and manufacturing method therefor
WO2023146229
Art A1
3. August 2023
Anmelder: POSTECH RESEARCH AND BUSINESS DEVELOPMENT FOUNDATI 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023146229
- Aktenzeichen
- EP23747271
- Anmeldetag
- 20. Januar 2023
- Veröffentlichung
- 3. August 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N27/12G01N33/00C01B32/158
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- POSTECH RESEARCH AND BUSINESS DEVELOPMENT FOUNDATI
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Postech Research and Business Development Foundation
Die POSTECH Research and Business Development Foundation verwaltet die Patentverwertung der südkoreanischen Universität POSTECH (Pohang University of Science and Technology). Das Portfolio verteilt sich breit über Halbleitertechnik, Medizintechnik, Pharma/Biotechnologie und Software. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2019 bis 2025 ab.
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