Enabling bottom isolation and epitaxial strain of fet source/drain structures

WO2023148015 Art A1 10. August 2023

Anmelder: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023148015
Aktenzeichen: EP23701863
Anmeldetag: 20. Januar 2023
Veröffentlichung: 10. August 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/775H01L21/336H01L29/423H01L29/78H01L29/10H01L29/06B82Y10/00H01L29/08H01L29/165

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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