Verfahren zur Untersuchung einer Halbleiterprobenschicht mittels Schicht und Untersuchungsvorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

WO2023151946 Art A1 17. August 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023151946
Aktenzeichen: EP23702274
Anmeldetag: 25. Januar 2023
Veröffentlichung: 17. August 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/2251

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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