Defect inspecting device and defect inspecting method
WO2023152848
Art A1
17. August 2023
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023152848
- Aktenzeichen
- EP22925869
- Anmeldetag
- 9. Februar 2022
- Veröffentlichung
- 17. August 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B11/00H01L21/66G01N21/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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