Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, and polymer

WO2023153059 Art A1 17. August 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023153059
Aktenzeichen: EP22926073
Anmeldetag: 30. November 2022
Veröffentlichung: 17. August 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/18G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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