Radiation-sensitive resin composition and pattern formation method

WO2023153295 Art A1 17. August 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023153295
Aktenzeichen: EP23752760
Anmeldetag: 2. Februar 2023
Veröffentlichung: 17. August 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/10G03F7/038G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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