Radiation-sensitive resin composition and pattern formation method

WO2023153296 Art A1 17. August 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023153296
Aktenzeichen: EP23752761
Anmeldetag: 2. Februar 2023
Veröffentlichung: 17. August 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D307/00C07D317/72C07D327/04C07D327/06C08F220/18C09K3/00G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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