A supercontinuum radiation source and associated metrology devices

WO2023156149 Art A1 24. August 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023156149
Aktenzeichen: EP23701505
Anmeldetag: 23. Januar 2023
Veröffentlichung: 24. August 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/00H01S3/23H01S3/06G02F1/35G02B6/02G03F7/20H01S5/42H01S3/0941G01B11/00G02F1/365

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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