Wiring substrate production method, wiring substrate, reticle, and exposure pattern-rendering data structure
WO2023157136
Art A1
24. August 2023
Anmelder: Resonac Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023157136
- Aktenzeichen
- EP22927039
- Anmeldetag
- 16. Februar 2022
- Veröffentlichung
- 24. August 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05K3/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Resonac Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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