Diffraction grating manufacturing method and diffraction grating

WO2023157475 Art A1 24. August 2023

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023157475
Aktenzeichen: EP22926342
Anmeldetag: 23. Dezember 2022
Veröffentlichung: 24. August 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/18G01J3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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