Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, electronic device manufacturing method, and polymer

WO2023157712 Art A1 24. August 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023157712
Aktenzeichen: EP23756239
Anmeldetag: 7. Februar 2023
Veröffentlichung: 24. August 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08F20/54C08F22/40G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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