Methods and systems for improving wafer defect classification nuisance rate
WO2023160986
Art A1
31. August 2023
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023160986
- Aktenzeichen
- EP23703721
- Anmeldetag
- 3. Februar 2023
- Veröffentlichung
- 31. August 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/95H01L21/66G06T7/00G01N23/2251
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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