Method for producing plasma processed liquid and plasma irradiation apparatus
WO2023161991
Art A1
31. August 2023
Anmelder: FUJI CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023161991
- Aktenzeichen
- EP22928522
- Anmeldetag
- 22. Februar 2022
- Veröffentlichung
- 31. August 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05H1/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJI CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fuji Machine Mfg.
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chiryu, das Bestückungsautomaten und Fertigungssysteme für die Elektronikindustrie herstellt.
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