Chemically amplified positive photosensitive composition, production method for substrate with template, and production method for plated article
WO2023162552
Art A1
31. August 2023
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023162552
- Aktenzeichen
- EP23759558
- Anmeldetag
- 24. Januar 2023
- Veröffentlichung
- 31. August 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G03F7/039G03F7/20G03F7/40H05K3/18H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
927 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.