Semiconductor substrate production method and composition

WO2023162780 Art A1 31. August 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023162780
Aktenzeichen: EP23759782
Anmeldetag: 14. Februar 2023
Veröffentlichung: 31. August 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C07F5/02G03F7/11G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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