Active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active-ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method, method for manufacturing electronic device, and compound

WO2023162836 Art A1 31. August 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023162836
Aktenzeichen: EP23759837
Anmeldetag: 15. Februar 2023
Veröffentlichung: 31. August 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C49/443C07C49/67C07C49/697C07C325/02C07C381/12C07D213/68C07D231/20C07D231/22G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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