Polymer and photosensitive resin composition thereof

WO2023162889 Art A1 31. August 2023

Anmelder: NIPPON SHOKUBAI CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023162889
Aktenzeichen
EP23759890
Anmeldetag
17. Februar 2023
Veröffentlichung
31. August 2023
Rechtsraum
WO
IPC
C08F220/10C08F290/12C08K3/013C08K5/103C08L33/06G02B5/20G03F7/004G03F7/033G03F7/038G09F9/30
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nippon Shokubai

Japanisches Chemieunternehmen, das unter anderem Acrylsäure, Superabsorber und Katalysatoren für die Industrie produziert.

1.571 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von

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