Method for manufacturing semiconductor device, and semiconductor device
WO2023163070
Art A1
31. August 2023
Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023163070
- Aktenzeichen
- EP23760069
- Anmeldetag
- 22. Februar 2023
- Veröffentlichung
- 31. August 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02H01L21/3205H01L21/768H01L23/522H01L23/532H01L25/065H01L25/07H01L25/18H01L27/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RESONAC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
2.042 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.