Appearance analysis system, appearance analysis method, and program

WO2023166776 Art A1 7. September 2023

Anmelder: HITACHI, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023166776
Aktenzeichen
EP22929920
Anmeldetag
6. Oktober 2022
Veröffentlichung
7. September 2023
Rechtsraum
WO
IPC
G06T7/00G06V10/82
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
HITACHI, LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

21.149 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen