Gap Characterization in Electrodeposition Tool

WO2023168210 Art A1 7. September 2023

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023168210
Aktenzeichen: EP23764042
Anmeldetag: 28. Februar 2023
Veröffentlichung: 7. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C25D17/00C25D17/06C25D21/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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