Pupil mask for generating quasi-non-diffracting light sheet and optimized design method therefor
WO2023169062
Art A1
14. September 2023
Anmelder: Shenzhen Institutes of Advanced Technology (SIAT), Chinese Academy of Sciences (CAS) 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023169062
- Aktenzeichen
- EP22930681
- Anmeldetag
- 28. Dezember 2022
- Veröffentlichung
- 14. September 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B27/00G02B21/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shenzhen Institutes of Advanced Technology (SIAT), Chinese Academy of Sciences (CAS)
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Shenzhen Institutes of Advanced Technology (siat), Chinese Academy of Sciences (cas)
Die Shenzhen Institutes of Advanced Technology sind eine Forschungseinrichtung der Chinesischen Akademie der Wissenschaften mit Sitz in Shenzhen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Medizintechnik, ergänzt durch Messtechnik und Halbleitertechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2016 bis 2023.
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