Resist composition, resist pattern formation method, compound, and polymer compound

WO2023171670 Art A1 14. September 2023

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023171670
Aktenzeichen: EP23766846
Anmeldetag: 7. März 2023
Veröffentlichung: 14. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07C309/12C07C381/12C07D307/00C07D327/06C07D333/46C07D333/76C08F12/20C08F20/22G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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