Multi-layer contact structure, photovoltaic cell and method of fabrication of multi-layer contact structure
WO2023172207
Art A2
14. September 2023
Anmelder: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE 🇸🇬
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023172207
- Aktenzeichen
- EP23767257
- Anmeldetag
- 13. März 2023
- Veröffentlichung
- 14. September 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L31/04H01L31/0216H01L31/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
- Land
- 🇸🇬 Singapur
🇸🇬
National University of Singapore
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