Pedestal shroud to direct flow of process gases and byproducts in substrate processing systems

WO2023172507 Art A1 14. September 2023

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023172507
Aktenzeichen: EP23767364
Anmeldetag: 6. März 2023
Veröffentlichung: 14. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/458C23C16/44C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von