Transistor devices with multi-layer interlayer dielectric structures

WO2023172578 Art A1 14. September 2023

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023172578
Aktenzeichen: EP23767407
Anmeldetag: 7. März 2023
Veröffentlichung: 14. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/786H01L29/66H10K59/121H10K59/124H10K59/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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