Methods of selective deposition and chemical delivery systems

WO2023172736 Art A1 14. September 2023

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023172736
Aktenzeichen: EP23767515
Anmeldetag: 10. März 2023
Veröffentlichung: 14. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/04C23C16/02C23C16/40C23C16/458C23C16/505C23C16/44C23C16/52

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von