Anolyte solution dosing for electroplating apparatus

WO2023172854 Art A1 14. September 2023

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023172854
Aktenzeichen: EP23767579
Anmeldetag: 5. März 2023
Veröffentlichung: 14. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C25D17/00C25D21/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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