Vacuum deposition system and method of coating substrates in a vacuum deposition system

WO2023174510 Art A1 21. September 2023

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023174510
Aktenzeichen: EP22714806
Anmeldetag: 14. März 2022
Veröffentlichung: 21. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/56H01L21/67H01L21/677C23C14/34C23C14/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von