A method for determining a vertical position of a structure on a substrate and associated apparatuses

WO2023174650 Art A1 21. September 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023174650
Aktenzeichen: EP23705593
Anmeldetag: 22. Februar 2023
Veröffentlichung: 21. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/21G03H1/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von