Semiconductor cleaning liquid and method for producing semiconductor cleaning liquid

WO2023176192 Art A1 21. September 2023

Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023176192
Aktenzeichen
EP23770153
Anmeldetag
7. Februar 2023
Veröffentlichung
21. September 2023
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304C11D7/24C11D7/26C11D7/50
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
TOKUYAMA CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

1.073 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen