Semiconductor cleaning liquid and method for producing semiconductor cleaning liquid
WO2023176192
Art A1
21. September 2023
Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023176192
- Aktenzeichen
- EP23770153
- Anmeldetag
- 7. Februar 2023
- Veröffentlichung
- 21. September 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304C11D7/24C11D7/26C11D7/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKUYAMA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokuyama
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.
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Vertreten von
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