Photosensitive resin composition, method for forming resist pattern film, and method for producing plated shaped article

WO2023176868 Art A1 21. September 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023176868
Aktenzeichen: EP23770821
Anmeldetag: 15. März 2023
Veröffentlichung: 21. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/02C09K3/00G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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