Non-halide oxygen-free organometallic precursors for ald/cvd of metallization

WO2023177413 Art A1 21. September 2023

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023177413
Aktenzeichen: EP22932457
Anmeldetag: 11. Juli 2022
Veröffentlichung: 21. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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